技術(shù)編號(hào)：6901292
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)隨著信息媒體例如計(jì)算機(jī)等飛速滲透到市場(chǎng)中，半導(dǎo)體器件在近幾年得 到了顯著發(fā)展。就功能而言，要求半導(dǎo)體器件滿足大容量存儲(chǔ)和數(shù)據(jù)處理能 力，以及高速運(yùn)算。作為對(duì)這些要求的響應(yīng)，半導(dǎo)體器件制造技術(shù)把焦點(diǎn)集 中在增加集成度、可靠性以及響應(yīng)速度上，迅速發(fā)展起來。光刻處理對(duì)于制造半導(dǎo)體器件是必須的。光刻處理包含以下步驟在晶 片上均勻地涂覆光致抗蝕劑層；采用具有預(yù)定布局的光掩模在光致抗蝕劑層 執(zhí)行曝光處理；以及將曝光的光致抗蝕劑層進(jìn)行顯影，以形成圖...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。