技術(shù)編號:6913913
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種受抑全內(nèi)反射激光Q開關(guān)裝置,屬于激光光電子技術(shù) 及其應(yīng)用領(lǐng)域。 背景技術(shù)受抑全內(nèi)反射(Frustrated total internal reflection,簡稱FTIR) 調(diào)制方式,它的基本原理如圖l所示,當(dāng)光線由折射率為w、的光密介質(zhì)l進(jìn) 入折射率為"2 U >w2)的光疏介質(zhì)2時,在入射角大于臨界角時將發(fā)生全反 射。在此條件下,雖然入射波完全反射,但是此時存在一種特殊的透射波場, 它穿過反射表面而進(jìn)入第二介質(zhì)中,這就是表面波...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。