技術(shù)編號：6922085
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在面對晶片的電極上感應(yīng)直流電壓的方法和裝置背景技術(shù)等離子體處理的進(jìn)步促進(jìn)了半導(dǎo)體工業(yè)的增長。等離子體處理可涉及不同的等離子體產(chǎn)生4支術(shù)，例如，電感耦合等離子體 處理系統(tǒng)、電容耦合等離子體處理系統(tǒng)、樣l波產(chǎn)生等離子體處理系 統(tǒng)等。在涉及材料的刻蝕和/或沉積以制造半導(dǎo)體器件的處理中，制 造商經(jīng)常使用電容耦合等離子體處理系統(tǒng)。現(xiàn)在制造的具有新的改進(jìn)材料、非均質(zhì)材一牛(dissimilar materials)的復(fù)雜堆棧、更薄的層、更小的特征和更緊密的容差的 下一...
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