技術(shù)編號(hào)：6924660
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。多區(qū)域處理系統(tǒng)及處理頭背景 半導(dǎo)體處理操作包括透過(guò)沉積處理以形成層及移除層、定義特征部(如蝕刻)、制 備層(如清潔)、摻雜或其它不需在基板上形成層的處理。此外，類(lèi)似的處理技術(shù)應(yīng)用于下 列各裝置的制造集成電路(IC)半導(dǎo)體裝置、平板顯示裝置、光電子裝置、數(shù)據(jù)儲(chǔ)存裝置、 磁電子裝置、封裝裝置及其它類(lèi)似裝置。因特征部的尺寸持續(xù)縮小，對(duì)于沉積處理不斷在追 求無(wú)論是在材料、單元處理或處理次序上的進(jìn)步。然而，半導(dǎo)體廠商透過(guò)分批處理對(duì)整片晶 圓處理進(jìn)行研發(fā)，因沉積系統(tǒng)被...
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