技術(shù)編號(hào)：6929978
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及質(zhì)量控制領(lǐng)域，特別涉及一種。 背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體制造工藝已經(jīng)進(jìn)入納米時(shí)代，以適應(yīng)各項(xiàng)電 子產(chǎn)品越做越小，功能越做越強(qiáng)的趨勢(shì)。而伴隨著芯片功能越做越強(qiáng)，元件越做越小的趨勢(shì) 而來的，便是對(duì)工藝中各種不同環(huán)節(jié)的技術(shù)要求越來越高。由于元件越來越小，而內(nèi)部線路 越做越復(fù)雜，使工藝中對(duì)各項(xiàng)參數(shù)的細(xì)微變化更敏感，原先可以容許的工藝條件誤差，在元 件體積大幅縮小后，可能會(huì)對(duì)元件的性能造成極大的影響，因此，為達(dá)到良好的元件性能， 對(duì)工藝條件及...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。