技術(shù)編號：6935030
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及對表面涂敷抗蝕劑并曝光后的襯底進(jìn)行顯影的顯影處 理方法和顯影處理裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體設(shè)備的制造中，通常在半導(dǎo)體晶片等襯底上涂敷光致抗 蝕劑，使由此形成的抗蝕劑膜按照規(guī)定的電路圖案曝光，并對該曝光 圖案進(jìn)行顯影處理，由此在抗蝕劑膜上形成電路圖案。在這種光刻工序中，通常使用在進(jìn)行抗蝕劑的涂敷、顯影的涂敷、 顯影裝置上連接有曝光裝置的系統(tǒng)。作為現(xiàn)有的顯影處理裝置，例如已知旋轉(zhuǎn)類顯影浸潤(puddle)方 式的顯影處理裝置，該裝置向正在旋轉(zhuǎn)的襯底上供給...
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