技術編號:6940801
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及圓柱形超導磁體,特定來說涉及用于在外殼內定位此類磁體的布置。許多超導磁體容納在致冷劑室內,且通過用例如液氦等液體致冷劑部分填充致冷劑室而冷 卻超導磁體,所述液體致冷劑沸騰且將所述磁體保持于致冷劑的沸點。磁體必須穩(wěn)固連接 到致冷劑室。已知其它布置,其中不提供致冷劑室。在此類布置中,磁體容納在外部真空腔(ovc)內。本發(fā)明主要是針對用于將圓柱形磁體結構連接到致冷劑室的布置。背景技術圖1A到IB分別說明用于核磁共振(畫R)或磁共振成像(MRI)系統(tǒng)的常...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。