技術編號：6943168
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明關于一種在基材上形成穿導孔的方法及具有穿導孔的基材，詳言之，關于 一種在基材穿導孔的側壁上形成絕緣層的方法及具有穿導孔的基材。背景技術參考圖1至圖3，顯示已知在基材上形成穿導孔的方法的示意圖。首先，參考圖1， 提供一基材1，該基材1具有一第一表面11及一第二表面12。接著，于該基材1的第一表 面11上形成數(shù)個溝槽13。接著，利用化學氣相沉積法(Chemical VaporDeposition, CVD) 形成一絕緣層14于該等溝槽13的側壁，且形成數(shù)...
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