技術編號：6951903
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體制造工藝領域，尤其涉及一種制備用于TEM(透射電子顯微鏡) 觀察的具有大馬士革結構的半導體樣品的方法。背景技術隨著半導體制造產業(yè)的發(fā)展，設計和制造的半導體器件尺寸和電路參數越來越小，相應影響半導體器件的性能的因素也就越來越多。因此，在半導體器件的設計過程中， 為使設計出來的半導體器件具有較高的可靠性和有效性，一般需要根據半導體器件的設計方案制備相應的半導體器件樣品，并對半導體器件樣品進行有效性分析，進而可根據有效性分析的結果，對半導體器件的...
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