技術編號：6955555
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體制造，特別涉及一種。背景技術隨著半導體技術的不斷發(fā)展，集成電路集成化程度越來越高，器件的尺寸也不斷減小。然而器件尺寸的不斷減小導致器件的性能也受到很大的影響。例如，當溝道的長度縮小到50nm之下時，器件開始表現(xiàn)出短溝道效應，包括載流子遷移率下降、閾值電壓增大以及漏感應勢壘下降(DIBL)等問題。為了減少由于尺寸縮小造成的問題，可以通過應力技術來改善溝道區(qū)的應力，從而提高載流子的遷移率，提高器件的性能。具體是通過使金屬-氧化物-半導體場效應管...
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