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技術(shù)編號(hào)：6986682

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本發(fā)明涉及集成電路(IC)。更具體來說，本發(fā)明提供用于在半導(dǎo)體芯片內(nèi)布置有源和無源裝置的技術(shù)。背景技術(shù)圖1為常規(guī)CMOS設(shè)計(jì)100的說明。常規(guī)設(shè)計(jì)100包括襯底102和升高的金屬層 Ml到Mn。在此實(shí)例中，重新分布設(shè)計(jì)層(Redistributed Design Layer，RDL) 101包括金屬氧化物，且因此還可被稱作金屬層。升高的金屬層Ml到Mn在后段工藝期間進(jìn)行制造，且被稱作后段工藝(BEOL)層103。有源層106被制造在襯底102上，且包括例如...
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