技術編號：6987581
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及。更具體地，本發(fā)明涉及諸如通過使用等離子體在待處理基板的表面上形成薄膜或蝕刻待處理基板的表面等利用等離子體處理基板的等離子體處理裝置和等離子體處理方法，以及包括待處理基板的元件的制造方法。背景技術傳統(tǒng)地，例如，在蝕刻裝置中，主要使用使用磁體的磁控型等離子體產生裝置、使用電子回旋共振的ECR放電型等離子體產生裝置以及使用螺旋波的螺旋型等離子體產生直ο作為等離子體產生裝置，專利文獻1公開了一種裝置，在該裝置中，沿著環(huán)狀中心軸線被磁化的多個永磁體以極性...
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