技術(shù)編號:6995087
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明與一種半導體元件制造方法有關(guān),特別是一種制造具有上升發(fā)射極集電極結(jié)構(gòu)的金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)的方法。(2)背景技術(shù)近來,半導體工業(yè)有了非常繁榮的發(fā)展。為了獲得高性能的集成電路及提高晶片的構(gòu)裝密度,在超大型集成電路(ULSI)技術(shù)中,半導體元件的尺寸不斷的縮小。集成電路包括在晶片上特定區(qū)域中形成數(shù)以百萬計的元件及用以連接這些元件的電性連結(jié)結(jié)構(gòu),以便能執(zhí)行所需的特定功能。而金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)便是典型的元件之...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。