技術編號：6996062
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種。 背景技術平板印刷技術中的微細化正在向曝光波長短波化、及增大曝光裝置的成像光學系統(tǒng)的孔徑(NA值)的方向發(fā)展。具體地，將曝光波長短波化為I線(波長365nm)、KrF受激準分子激光(波長M8nm)和ArF受激準分子激光(波長193nm)。另外，NA值也逐漸變大， 成為0. 9左右的值，通過進一步在投影透鏡和基板之間灌滿水進行液浸化，能夠?qū)崿F(xiàn)1以上的NA值。與此相對，在尖端領域裝置中半導體器件所使用的最小間距圖案尺寸也形成 hp (半間距)6...
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