技術(shù)編號(hào):6998649
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及經(jīng)液體在基片上照射曝光光以對(duì)基片曝光的。此外,本發(fā)明涉及使用了液浸法的投影曝光裝置中使用的光學(xué)部件和使用了該光學(xué)部件的投影曝光裝置。再者,本發(fā)明涉及適合于在與液體或氣體接觸的環(huán)境下使用的光學(xué)部件。背景技術(shù)利用將在掩模上形成的圖案轉(zhuǎn)印到感光性的基片上的所謂的光刻的方法來(lái)制造半導(dǎo)體器件或液晶顯示器件。在該光刻工序中使用的曝光裝置具有支撐掩模的掩模臺(tái)和支撐基片的基片臺(tái),一邊逐次移動(dòng)掩模臺(tái)和基片臺(tái),一邊經(jīng)投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基片上。近年來(lái),為了...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。