技術(shù)編號:7004982
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及作為半導(dǎo)體器件的保護結(jié)構(gòu)的鈍化膜及管芯邊緣密封。背景技術(shù) 為保護半導(dǎo)體器件的電路形成區(qū)使之免受來自外界氣氛中的水分及離子的影響,在切割線的內(nèi)側(cè),即在芯片(管芯)的邊緣部附近,設(shè)置被稱之為管芯邊緣密封(Die Edge Seal)或保護環(huán)、密封環(huán)的保護結(jié)構(gòu)。與電路形成區(qū)一樣,密封環(huán)由布線層及接觸形成,且以包圍半導(dǎo)體器件的電路形成區(qū)的方式形成。并且,作為保護半導(dǎo)體器件的表面使之免受外界氣氛影響的方法,在該表面上設(shè)置稱作鈍化膜的保護膜。然而,近年來,隨...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。