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技術(shù)編號：7008148

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本發(fā)明揭露一種柵極第一高介電常數(shù)金屬柵極堆棧上無氧的快速熱退火，其中，揭示一種改善臨界電壓(Vt)的半導(dǎo)體裝置制造方法及所得的裝置。具體實(shí)施例包含于襯底上形成高介電常數(shù)金屬柵極堆棧；植入摻雜劑于襯底的主動區(qū)中；以及在氧氣不超過30%的氮?dú)猸h(huán)境中進(jìn)行快速熱退火。專利說明柵極第一高介電常數(shù)金屬柵極堆棧上無氧的快速熱退火[0001]本發(fā)明涉及制造半導(dǎo)體的高介電常數(shù)金屬柵極(high-k/metal gate;簡稱HKMG)堆棧。特別可應(yīng)用在制造32納米(nm)技...
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