技術(shù)編號(hào):7012956
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開(kāi)了一種等離子體發(fā)生裝置。僅在與空氣接觸的部分產(chǎn)生等離子體而消除在不必要的部分中的放電并抑制臭氧的產(chǎn)生。所述等離子體發(fā)生裝置具備圍繞流路R而形成的環(huán)形的低電介質(zhì)層2;記載低電介質(zhì)層2的同時(shí),圍繞流路R而形成的第一電極3及第二電極4;在第一電極3及第二電極4、第一電極3或第二電極4之中的至少一個(gè)與低電介質(zhì)層2之間,圍繞流路R而形成的環(huán)形的高電介質(zhì)層。專利說(shuō)明等離子體發(fā)生裝置[0001 ] 本發(fā)明涉及一種等離子體發(fā)生裝置。背景技術(shù)[0002]由于最近的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。