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技術(shù)編號(hào)：7015393

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本發(fā)明公開(kāi)了，該方法包括選擇Ge襯底，去除Ge襯底表面的自然氧化層，然后將其轉(zhuǎn)移到原子層沉積系統(tǒng)的腔體中，在Ge襯底表面沉積一層Al2O3薄膜作為氧化過(guò)程中的O3阻擋層；利用原子層沉積系統(tǒng)中的前驅(qū)體O3作為氧化劑，在Al2O3／Ge界面處氧化形成一層GeOx界面層；將在Al2O3／Ge界面處形成有超薄GeOx界面層的Ge襯底放入原子層沉積反應(yīng)腔體中，在Al2O3薄膜上沉積高k柵介質(zhì)；利用快速退火爐對(duì)其先后進(jìn)行柵介質(zhì)沉積后退火及低溫氧氣退火，進(jìn)一步提升氧化物...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。

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