技術(shù)編號：7038915
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。原子層沉積裝置的噴頭往復(fù)移動裝置使噴頭往復(fù)移動，供氣控制裝置是將通過噴頭同時噴射源前體和吹掃用氣體的階段以及同時噴射反應(yīng)物前體和吹掃用氣體的階段反復(fù)實施，進(jìn)而在基板上交替涂覆第一反應(yīng)層和第二反應(yīng)層。噴射的前體和吹掃用氣體則通過噴頭被噴射即排出。本發(fā)明因不同時進(jìn)行源前體噴射和反應(yīng)物前體噴射而防止源前體和反應(yīng)物前體混在一起，且同時進(jìn)行前體噴射、吹掃用氣體噴射和排氣而提高產(chǎn)能率，并最大限度減少噴頭往復(fù)移動距離而適用于大型基板的同時可縮小裝備的大小。而且，本發(fā)明可...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。