技術(shù)編號:7040955
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種基板處理裝置,提高載置臺的溫度響應(yīng)性。該基板處理裝置包括腔室;設(shè)置于上述腔室內(nèi),用于載置基板的載置臺;施加高頻電力的高頻電源;和對上述腔室內(nèi)供給所期望的氣體的氣體供給源,上述載置臺包括形成有流通冷媒的流路的第一陶瓷基材;形成在上述第一陶瓷基材的載置基板的一側(cè)的主面和側(cè)面的第一導(dǎo)電層;和層疊在上述第一導(dǎo)電層上,靜電吸附所載置的基板的靜電吸盤,上述流路的體積為上述第一陶瓷基材的體積以上,利用施加在上述第一導(dǎo)電層上的高頻電力,從上述所期望的氣體生成...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。