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技術(shù)編號：7043839

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本發(fā)明提供,抑制線型位錯的外延結(jié)構(gòu)在高溫u-GaN層4/5厚度處，插入一層50-200nm非摻u-AlGaN外延層；在高溫n-GaN層1/3厚度處，插入一層4-8個周期的n-AlGaN/GaN超晶格層；在低摻雜n-GaN層后生長一層2-6nm低摻n-AlGaN層；2）抑制V型缺陷漏電的外延結(jié)構(gòu)在MQW最后一個壘后生長一層10-50nm非摻AlGaN層；在低溫p-GaN和高溫p-GaN層中間插入一層50-200nm低摻p-AlGaN層。本發(fā)明可以有效降低Ga...
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