技術(shù)編號：7045363
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種能夠調(diào)節(jié)在腔體內(nèi)部生成的等離子體密度的。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板處理裝置包括提供實(shí)施工序的處理空間的腔體；在上述處理空間支撐基板的基板支撐單元；向上述處理空間供給處理氣體的氣體供給單元；以及根據(jù)向上述處理空間供給的處理氣體產(chǎn)生等離子體的等離子體產(chǎn)生單元，上述等離子體產(chǎn)生單元具有設(shè)置在上述腔體的上部的天線部件；位于上述天線部件的上部的調(diào)節(jié)焊盤；以及使上述調(diào)節(jié)焊盤向上下移動的驅(qū)動部件。專利說明 [0001]本發(fā)明涉及處理基板的裝置及方法，...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。