技術(shù)編號(hào)：7046971
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種，包括步驟(1)在硅片上，進(jìn)行硅接觸通孔刻蝕；(2)在硅片表面、硅接觸通孔的側(cè)壁和底部，形成第一鋁硅銅膜，并將硅片冷卻至室溫；(3)對(duì)第一鋁硅銅膜進(jìn)行刻蝕；(4)在第一鋁硅銅膜表面上，形成第二鋁硅銅膜；(5)金屬鋁硅銅的刻蝕。本發(fā)明的成膜工藝方法，有效的降低成膜前硅接觸底擴(kuò)散作用，防止形成Al尖楔，從而防止器件失效。專利說明 [0001] 本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體領(lǐng)域中的成膜方法，特別是涉及一種防止鋁尖楔的成膜工 藝方法。 背景技術(shù) ...
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