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技術(shù)編號(hào)：7053257

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本發(fā)明公開了，屬于半導(dǎo)體。所述外延片包括襯底、以及依次層疊在所述襯底上的低溫緩沖層、高溫緩沖層、N型層、有源層、電子阻擋層、P型層，所述電子阻擋層包括GaN層、以及依次層疊在所述GaN層上的至少兩層AlGaN層，所述至少兩層AlGaN層的Al組分含量沿所述外延片的生長方向逐層遞增或逐層遞減。本發(fā)明通過將電子阻擋層設(shè)置為包括GaN層和至少兩層AlGaN層，至少兩層AlGaN層的Al組分含量沿外延片的生長方向逐層遞增或遞減，使電子阻擋層能帶的能階高度分布情況變...
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