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技術(shù)編號：7055396

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一種具有窄間距TSV構(gòu)造的。絕緣部(5)由填充在半導(dǎo)體基板(1)的厚度方向上所形成的槽或孔的內(nèi)部(121)的絕緣物構(gòu)成。柱狀導(dǎo)體(311～316)被填充在以窄間距(d1、d2)配置在絕緣部(5)的面內(nèi)且在厚度方向上延伸的槽或孔的內(nèi)部。專利說明 [0001]本發(fā)明涉及適用了 TSV(Through-Silicon-Via)技術(shù)的。更具體地說，涉及適用了窄間距TSV形成技術(shù)的。 背景技術(shù) [0002]在適用TSV(Through-Silicon-Vi...
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