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技術(shù)編號：7058430

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本發(fā)明涉及用于清洗金屬殘留物的方法和溶液，具體提供一種用于處理半導(dǎo)體器件的溶液，該溶液包含活化劑，該活化劑包括吡啶、吡咯、吡咯烷、嘧啶、N,N-二甲基甲酰胺、氯化四乙胺、4-吡啶硫醇、或者具有單個N孤對電子活化劑的其它有機(jī)化合物中的至少一種；和蝕刻劑，該蝕刻劑包括氯化亞砜、Cl2、Br2、I2、SOF2、SOF4、SO2Cl2、SOBr2、S2O6F2、HSO3F、或C2Cl4O2中的至少一種。專利說明用于清洗金屬殘留物的方法和溶液 [0001]本發(fā)...
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