技術(shù)編號:7060404
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種發(fā)光二極管的生長方法及發(fā)光二極管,屬于半導(dǎo)體。所述方法包括依次在襯底上生長低溫緩沖層、高溫緩沖層、N型層、高溫有源層、低溫有源子層、P型層;生長低溫有源子層,包括生長低溫InGaN阱層,低溫InGaN阱層生長溫度低于高溫InGaN阱層生長溫度;開啟N源和In源,形成InN;關(guān)閉In源和開啟Ga源,形成GaN,并且之前形成的InN滲入GaN中生成低溫InGaN壘層;開啟Al源,在低溫InGaN壘層上生長AlGaN壘層,低溫InGaN壘層和Al...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。