技術(shù)編號：7064305
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于電子束光刻，具體為一種使用電子束光刻、stencil、光學(xué)光刻制作石墨烯納米器件的方法。其步驟包括在100（300）nm氮化硅隔膜上旋涂300（600）nm的PMMA作為掩膜，用電子束光刻直寫出100（200）nm寬，200（500）nm周期的叉指電極，再用RIE刻蝕100（300）nm氮化硅隔膜，得到stencil；用stencil作為掩膜板，用熱蒸發(fā)把100nm金蒸發(fā)到以硅為襯底的石墨烯上；然后用光學(xué)光刻定義出pads區(qū)域，再用熱蒸發(fā)蒸發(fā)金，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。