技術(shù)編號：7107633
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及激光晶體和器件領(lǐng)域。背景技術(shù)以欽(Ho3+)為激活離子，由5I7 — 5I8躍遷產(chǎn)生的2. O μ m波段激光處于H2O和CO2等分子的強烈吸收區(qū)；該波段激光對人眼安全，在醫(yī)療、通訊和國防等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。采用銩(Tm3+)離子敏化，借助于銩離子的交叉弛豫3H4+3H6 —3F4+3F4以及銩向欽的能量傳遞3F4 (Tm3+) +5I8 (Ho3+) — 3H6 (Tm3+) +5I7 (Ho3+)，可以方便地利用發(fā)射波長在800 nm附...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。