技術(shù)編號：7109816
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是關(guān)于可用于半導(dǎo)體或其它電子器件中的絕緣層的低介電常數(shù)材料。 背景技術(shù)半導(dǎo)體制造技術(shù)一般使用介電材料作為位于電路和電路元件(如集成電路)之間的絕緣層。但是在一個示例中，一般將介電材料用在半導(dǎo)體器件的多層互連結(jié)構(gòu)的互連層之間。通常將這種應(yīng)用的介電材料稱為層間介質(zhì)(ILD)。隨著半導(dǎo)體器件元件的尺寸降低， 分離相鄰的部件的需求變得更迫切和更困難。為了實現(xiàn)這些挑戰(zhàn)，工廠開始使用低介電常數(shù)材料取代二氧化硅的傳統(tǒng)使用來作為ILD層。然而，低介電常數(shù)(低_k)材...
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