技術(shù)編號(hào):7156734
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種晶體管及其制作方法,特別涉及一種在低導(dǎo)通電阻下,可同時(shí)維持高耐壓能力的具有。背景技術(shù)高電子遷移率晶體管(HighElectron Mobility Transistor ;HEMT)是一種異質(zhì)結(jié)構(gòu)場(chǎng)效晶體管(Heterostructure Field Effect Transistor ;HFET),可應(yīng)用于功率放大器、微波及毫米波等電子組件,對(duì)于通訊電子組件市場(chǎng)扮演重要角色。圖IA即為傳統(tǒng)高電子遷移率晶體管組件結(jié)構(gòu)剖面圖,其包含一半絕緣基板...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。