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技術(shù)編號：7164498

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種柵極側(cè)墻形成方法、采用了該柵極側(cè)墻形成方法的MOS器件制造方法、以及由該MOS器件制造方法制成的MOS器件。背景技術(shù)熱載流子效應(yīng)是MOS (金屬-氧化物-半導(dǎo)體)器件的一個重要的失效機理，隨著 MOS器件尺寸的日益縮小，器件的熱載流子注入效應(yīng)越來越嚴重。以PMOS器件為例，溝道中的空穴，在漏源之間高橫向電場的作用下被加速，形成高能載流子，高能載流子與硅晶格碰撞，產(chǎn)生電離的電子空穴對，電子由襯底收集，形成襯...
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