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功率mos晶體管內(nèi)集成肖特基二極管的器件及制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:7180175

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本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù),具體涉及一種功率MOS晶體管內(nèi)集成 肖特基二極管的器件,本發(fā)明還涉及該器件的制造工藝方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體集成電路中,現(xiàn)有典型的功率MOS (金屬氧化物半導(dǎo)體)晶體管結(jié)構(gòu)如圖 1所示。其通過溝道型柵極控制垂直溝道的開啟,實現(xiàn)MOS管的開關(guān)功能。為了提高器件的交頻特性,目前較普遍的做法為在功率MOS晶體管芯片上集成肖 特基二極管,多為分離器件,即在原有功率MOS晶體管芯片旁并聯(lián)一個肖特基二極管芯片, 此方法雖然能提高器件...
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