技術(shù)編號：7211107
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶圓制造工藝，具體涉及一種半導(dǎo)體晶圓蝕刻灰化后 的清洗方法。背景技術(shù)在通常的半導(dǎo)體制造工藝中，通過在金屬層上形成光致抗蝕劑的掩模， 曝光后用等離子體刻蝕形成導(dǎo)電金屬層的圖案。由于在金屬層等離子體刻 蝕中，使用很多的含鹵氣體，激發(fā)等離子體來刻蝕金屬。在晶圓上，特別是 刻蝕殘余物中有很多含鹵族元素的物質(zhì)，這些鹵元素，特別是含氯的物質(zhì)在和水接觸的過程中，會對金屬造成嚴重的腐蝕。在pH較高的水中單獨的OH— 離子也會腐蝕金屬。在用化學(xué)清洗液去除金屬...
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