技術(shù)編號:7223325
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種制造集成在半導(dǎo)體村底上的多漏極的功率電子器件 的工藝。更具體地,本發(fā)明涉及一種制造集成在第一導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體襯底 上的多漏極的功率電子器件的工藝,在該襯底上形成漏極半導(dǎo)體層。本發(fā)明尤其是,但是不是排他性地,涉及制造多漏極的功率M0S晶 體管的工藝,僅僅借助于說明書,并參考該應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行下述的說明。技術(shù)背景如所公知的,具有在200和IOOOV之間的擊穿電壓BV的功率M0S器 件具有高的輸出電阻(Ron),主要是由于耐高電壓所必需的外延漏極層 電...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。