技術(shù)編號：7223711
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于驅(qū)動半導(dǎo)體激光器的方法和設(shè)備。 本發(fā)明也涉及一種用于產(chǎn)生校正圖案的方法，所述校正圖案用于驅(qū)動半導(dǎo)體激光器的方法中，用于校正在自動功率控制和/或光電檢測器的輸出中所使用的設(shè)定值。進一步地，本發(fā)明涉及用光對光敏材料曝光的曝光設(shè)備，所述光從半導(dǎo)體激光器發(fā)射并通過空間光調(diào)制元件調(diào)制。背景技術(shù)半導(dǎo)體激光器實際中使用在很多領(lǐng)域。日本未審查專利出版物Na 2005-055881公開了一種激光曝光設(shè)備，所述激光曝光設(shè)備用空間光調(diào)制元件調(diào)制從半導(dǎo)體激光器發(fā)...
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