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技術(shù)編號：7230577

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本發(fā)明涉及一種晶體管的測試結(jié)構(gòu)。 背景技術(shù)互補金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS )工藝技術(shù)是通過薄膜沉積技術(shù)(Thin Film Deposition)將導(dǎo)體、半導(dǎo)體及絕緣層等材料分層沉積于待制晶圓(wafer)表 面，以形成半導(dǎo)體器件如晶體管或電容等。在晶圓的制造過程中，針對半導(dǎo)體器件的測試樣本(sample )進行晶圓級 可靠性測試(WLR， Wafer Level Reliability )或封裝級可靠性測試(PLR， Package Level Reli...
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