技術(shù)編號：7230723
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及對例如半導(dǎo)體晶片及LCD基板(液晶顯示器用玻璃基板)等基板進行基板的清洗處理、抗蝕劑液的涂敷處理、及曝光后的顯影處理的涂敷、顯影裝置及涂敷、顯影方法。背景技術(shù) 對半導(dǎo)體設(shè)備及LCD基板等基板進行抗蝕劑液的涂敷，使用光掩模曝光其抗蝕劑膜，通過進行顯影而在基板上制作所希望的抗蝕劑圖形的一系列的處理，是使用將曝光裝置連接于進行抗蝕劑液的涂敷及顯影的涂敷、顯影裝置上的系統(tǒng)而進行的。涂敷、顯影裝置構(gòu)成為將以下的部件配置為一列載置晶片盒、具有在該晶片盒之間進...
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