技術(shù)編號(hào)：7242713
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種，所述制造方法包括提供半導(dǎo)體襯底；在半導(dǎo)體襯底上形成圖案化的金屬催化層；在圖案化的金屬層上形成至少一層石墨烯層；在石墨烯層和暴露的半導(dǎo)體襯底上覆蓋介質(zhì)層；刻蝕部分介質(zhì)層和石墨烯層，以形成溝槽；在溝槽中形成碳納米管材料層。本發(fā)明通過(guò)使用碳納米管材料層作為半導(dǎo)體器件的互連的通孔或接觸孔的互連材料，使用石墨烯層作為局部互連的互連材料，降低了寄生電阻以及連線之間的寄生電容，降低互連RC延遲，提高半導(dǎo)體器件的整體性能。并且，所述制造方法與銅互連結(jié)構(gòu)步驟...
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