技術(shù)編號：7245170
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種假柵結(jié)構(gòu)的制造方法。本發(fā)明在假柵材料層之上形成了ONO結(jié)構(gòu)和頂層非晶硅層，首先以圖案化的頂層非晶硅層為掩膜對ONO結(jié)構(gòu)進(jìn)行刻蝕，能夠精確地控制其尺寸和剖面形貌，使ONO結(jié)構(gòu)成為所期望的假柵材料層的掩膜，并且能夠控制ONO各層刻蝕速率和厚度；接著，以O(shè)NO結(jié)構(gòu)為掩膜刻蝕假柵材料層，同樣實(shí)現(xiàn)圖形的精確轉(zhuǎn)移，使得假柵關(guān)鍵尺寸和剖面形貌得到精確控制，使得后續(xù)形成的金屬柵極具有良好的粗糙度，保證了器件的性能及其穩(wěn)定性。專利說明[0001]本發(fā)明涉及領(lǐng)...
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