技術(shù)編號(hào)：7251611
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種真空處理裝置(100)，其能夠抑制處理的吞吐量的下降，為此，真空處理裝置具備多個(gè)真空搬運(yùn)室(41，42)，其配置在大氣搬運(yùn)室(21)的后方，搬運(yùn)被處理晶片，在真空搬運(yùn)室的周圍連結(jié)真空處理室(61，62，63)，真空處理室對(duì)所述被處理晶片使用等離子體實(shí)施處理；中間室(32)，其在所述真空搬運(yùn)室(41，42)之間搬運(yùn)的期間，載置并收納所述被處理晶片；以及鎖止室(31)，其在所述真空搬運(yùn)室與所述大氣搬運(yùn)室(21)的背面之間配置，真空處理裝置將在載置...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。