技術(shù)編號(hào)：7263338
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及調(diào)整等離子體處理系統(tǒng)的方位非均勻性的對(duì)稱返回襯墊，公開了用于調(diào)整等離子體處理室中的方位非均勻性的方法和裝置。裝置包括具有等離子體處理室和室襯的等離子體處理系統(tǒng)。調(diào)整方位非均勻性包括提供成組的導(dǎo)電帶以將室襯連接至接地環(huán)，其中該成組的導(dǎo)電帶中的導(dǎo)電帶數(shù)量大于8。替代地或另外地，鏡像切口針對(duì)室襯中的配對(duì)的現(xiàn)有切口或端口而提供。替代地或另外地，室襯具有針對(duì)配對(duì)結(jié)構(gòu)而提供的虛設(shè)結(jié)構(gòu)，該配對(duì)結(jié)構(gòu)阻礙室中的氣流和RF返回電流中的至少一者。專利說明調(diào)整等離子體處...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。