技術(shù)編號(hào)：7308797
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及包括通過移相型的PWM控制進(jìn)行開關(guān)動(dòng)作的開關(guān)電 路的電源裝置和使用該電源裝置的微波產(chǎn)生裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件、液晶顯示裝置的制造工序中，在半導(dǎo)體晶片、玻 璃基板等被處理基板上實(shí)施蝕刻處理、成膜處理等的等離子體處理。 因此，使用等離子體蝕刻裝置、等離子體CVD成膜裝置等等離子體處 理裝置。作為等離子體處理裝置中的等離子體的產(chǎn)生方式，多使用以下方 式向配置有平行平板電極的腔室內(nèi)供給處理氣體，向平行平板電極供給規(guī)定的電力，通過平行平板間的電容耦合而...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。