技術(shù)編號(hào)：7513440
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及和彈性表面波裝置等的電子部件的膜厚的測(cè)定方法。背景技術(shù) 至今，為了在同一基片上形成與多個(gè)獨(dú)立的頻率對(duì)應(yīng)的彈性表面波裝置，可以用以同一膜厚構(gòu)成多個(gè)不同間隔的電極圖案的方法。當(dāng)用該方法形成頻率很大不同的多個(gè)彈性表面波裝置時(shí)，在各個(gè)最佳條件下設(shè)計(jì)、制造電極間隔不同的多個(gè)圖案是極其困難的。作為解決該問(wèn)題的方法，在日本平成10年公布的10-93369號(hào)專利公報(bào)中，揭示了層積多種刻蝕速度很大不同的金屬，利用刻蝕速度之差形成多個(gè)膜厚的彈性表面波裝置的方法。但是...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無(wú)完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。