技術編號:7694912
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及了一種超聲波發(fā)射裝置,特別是一種單焦點相控聚焦超聲波發(fā)射裝置。 背景技術現有的超聲波發(fā)射裝置的發(fā)射基座通常采用凹面,發(fā)射振元裝在該凹面內,為了使 所有的發(fā)射振元聚焦于一點,對發(fā)射基座凹面的加工精度要求很高,在超聲波發(fā)射裝置 生產過程中,凹面發(fā)射基座的成品率較低。并且這種超聲波發(fā)射裝置不能進行相位控制。發(fā)明內容本發(fā)明的目的是解決現有技術中凹球面發(fā)射基座成品率較低和不能進行相位控制的 缺點,而提供一種單焦點相控聚焦超聲波發(fā)射裝置。為了實現本發(fā)明的目的...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。