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新型平面輻射加熱器的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):8023567

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技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種在真空薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中所使用的加熱裝置。背景技術(shù) 真空薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中,為了提高吸附于基體表面原子的活動(dòng)能力以改善晶體的生長(zhǎng)質(zhì)量,在薄膜沉積過(guò)程中需要對(duì)基片加熱。特別是對(duì)于氧化物、氮化物等薄膜的沉積,由于薄膜材料的熔點(diǎn)很高,要求凝聚原子具有較高的能量,就要求結(jié)晶良好的薄膜所需的基體溫度很高。因此如何設(shè)計(jì)合適的基片加熱器對(duì)于沉積功能薄膜而言是迫切需要解決關(guān)鍵問(wèn)題。在設(shè)計(jì)真空薄膜沉積系統(tǒng)的加熱器時(shí)必須考慮以下因素1)能夠滿(mǎn)足薄膜沉積對(duì)溫度的要求,即可以達(dá)到所需求的生長(zhǎng)溫度;2)加熱器的溫度均勻性良好;...
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