技術(shù)編號(hào):8051748
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及單晶薄膜制備的方法,尤其是。背景技術(shù)氧化鋁薄膜具有眾多優(yōu)點(diǎn),如光學(xué)性能好、機(jī)械強(qiáng)度與硬度高、透明性與絕緣性好、耐磨、抗蝕及化學(xué)惰性等,倍受人們的關(guān)注。在機(jī)械、微電子、光學(xué)、化工、醫(yī)學(xué)等許多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。因此,科技工作者對(duì)氧化鋁薄膜的研究和開(kāi)發(fā)工作就一直沒(méi)有停止過(guò)。起初氧化鋁薄膜的制備是通過(guò)工業(yè)CVD法,但是CVD沉積法對(duì)溫度要求很高,一般超過(guò)1000°C, 限制了在碳化物襯底等一些不耐高溫的表面上沉積氧化鋁的應(yīng)用。于是,人們不斷進(jìn)行試驗(yàn)研究試圖在PVD領(lǐng)域中找到一種低溫、高速的沉積法。脈沖激...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。