技術(shù)編號(hào)：8070808
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利摘要本發(fā)明屬于光電材料領(lǐng)域，其公開了一種二氧化鉿發(fā)光薄膜及其制備方法和電致發(fā)光器件；該發(fā)光薄膜的化學(xué)通式為Hf1-xO2xM3+；其中，HfO2是基質(zhì)，M3+是稀土離子，為發(fā)光薄膜中的激活離子，在發(fā)光薄膜中充當(dāng)主要的發(fā)光中心，M選自Ce,Pr,Nd或Ho，x的取值為0.01～0.05。本發(fā)明的二氧化鉿發(fā)光薄膜作為發(fā)光層的電致發(fā)光譜（EL）中，在620nm位置有很強(qiáng)的發(fā)光峰。專利說明一種二氧化鉿發(fā)光薄膜及其制備方法和電致發(fā)光器件 技術(shù)領(lǐng)域 [0001]本發(fā)明涉及光電材料領(lǐng)域，尤其涉及一種二氧化鉿發(fā)光薄膜及其制...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。