技術(shù)編號：8094060
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。專利摘要本發(fā)明公開了一種單晶硅片制絨的清洗方法，通過在單晶制絨后用氫氟酸加鹽酸的混酸清洗溶液進行兩次清洗，第一次氫氟酸加鹽酸清洗可以有效去除鈉離子、鉀離子等主要金屬雜質(zhì)，并去除硅片表面的薄層二氧化硅；第二次氫氟酸加鹽酸清洗更進一步清洗硅片淺表層金屬雜質(zhì)(第一次清洗后殘留的金屬雜質(zhì))，另外去除硅片表面的二氧化硅層，達到有效的脫水效果。同時，本發(fā)明還公開了一種單晶制絨設(shè)備，通過在鹽酸槽中同時引入鹽酸管道與氫氟酸管道，在氫氟酸槽中同時引入氫氟酸管道與鹽酸管道；從而可方便地獲得鹽酸與氫氟酸的混合溶液，方便進行上述單晶硅片制...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。